22. Januar 2004

Plasma-Ätzen für den Weltmarkt

Der Berliner Gerätebauer SENTECH will sich 2004 mit neuer High-Tech-Anlage weitere Anteile sichern

In der Berliner SENTECH Instruments GmbH hat jetzt die Serienfertigung neuer plasmagestützter Ätzanlagen zur Herstellung mikroelektronischer sowie mikrooptischer Bauteile begonnen. Nach Aussage des Adlershofer High-Tech-Unternehmens sollen die innerhalb nur eines Jahres entwickelten Geräte, die etwa die dreifache Produktivität des Vorgängertyps erreichen, ab dem Frühjahr an Kunden in Europa und Übersee ausgeliefert werden.

In Deutschland, wo es derzeit keinen heimischen Wettbewerber für diese Technik gebe, wolle die mittelständische Firma damit bereits 2004 ihren Marktanteil in dieser Geräteklasse deutlich auf 30 bis 40, international auf zehn bis 15 Prozent steigern, so hieß es. Bei den Vorgängermodellen habe dieser Anteil in den vergangenen Jahren bei 20 beziehungsweise unterhalb von zehn Prozent gelegen, sagte SENTECH-Verkaufschef Dr. Bernd Gruska.

Herzstück der vor allem für die industrielle Kleinserienferigung sowie Forschungsinstitute entwickelten Anlage ist ein Ätzreaktor mit einer Grundfläche von weniger als einem Quadratmeter, der auf einem mittleren Arbeitstisch bequem Platz findet. Hinzu kommen das elektronische Steuerungs- und das Vorpumpensystem. Das Gerät kostet nach Firmenangaben bis zu 350.000 Euro. In dem Reaktor werden Strukturen auf Galliumarsenid-Wafern (Halbleiter-Scheiben) und optischen Materialien wie Glas und Quarz mit Hilfe von Ätzgasen - Chlor- oder Fluorverbindungen - und Fotolackmasken erzeugt. Dafür werden unter sehr geringem Druck und hochfrequenter Spannung die Gasatome und -moleküle so angeregt, dass ein hochkonzentriertes Plasma entsteht.

Diese Teilchendichte ermöglicht eine hohe Produktivität, das Herausarbeiten sehr kleiner und tiefer Strukturen und eine schädigungsarme Bearbeitung. Während das gewöhnliche Plasma-Ätzen eine bereits seit langem gebräuchliche Methode zur Produktion mikroelektronischer Bauteile sei, habe sich das noch relativ junge Verfahren mit dem hochkonzentrierten Plasma in den letzten Jahren mehr und mehr durchgesetzt, erläutert Gruska. Sein Unternehmen habe bereits seit Ende des vergangenen Jahrzehnts solche Anlagen produziert und vorrangig in Deutschland, Großbritannien, Italien und in den USA abgesetzt, wo zum Teil auch die wichtigsten Wettbewerber arbeiten.

"In diesem Jahr geht es uns mit der neuen Ätzanlage insbesondere um die weitere Markterschließung", hob der Verkaufschef hervor. Mit dem Gerät können ebenso wie beim Vorgängertyp nicht nur Halbleiterstrukturen für Chips mit besonders schneller Signalverarbeitung erzeugt, sondern auch optische Bauteile wie Linsen und Lichtwellenleiter in der Größenordnung tausendster Teile eines Millimeters hergestellt werden - gleichfalls ein noch junges Einsatzgebiet für das Plasma-Ätzen. Solche miniaturisierten Optik-Komponenten werden zunehmend in der modernen Informationstechnik und für Hochleistungs-Halbleiterlaser benötigt. Darüber hinaus können mit Hilfe der SENTECH-Anlagen hundertstel Millimeter große Löcher in Halbleiter-Scheiben geätzt werden, "was erforderlich ist bei der Produktion extrem schneller Chips zum Beispiel für moderne Handys".

Laut Gruska liegt der Umsatzanteil, den die 1990 in Adlershof gegründete Firma mit plasmagestützten Ätzanlagen derzeit realisiert, bei etwa 50 Prozent. In der gleichen Größenordnung bewegt sich der Export. Hauptabnehmer ordern aus Westeuropa, Japan und Nordamerika. "Wir legen großen Wert auf die beständige Verbesserung der Produkte und stützen uns dabei auf eine gute Entwicklungsabteilung, die wir vor längerem bereits gegründet haben." So sei es gelungen, das jährliche Umsatzplus im Schnitt zwischen fünf und zehn Prozent zu halten. Neben den modernen Ätzanlagen wichtigstes SENTECH-Standbein sind Dünnschicht-Messgeräte für Labore, Chip-Hersteller und Anwender in der chemischen Industrie. Diese Technik arbeitet anhand der Polarisationsänderung von reflektiertem Licht exakt im Bereich millionster Teile eines Millimeters.

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